0°根轨迹绘制规则

绘制法则，参考 180°根轨迹绘制法则

一、非最小相位系统

在 s 右半平面具有开环零极点的控制系统为非最小相位系统

非最小相位系统来源：

1. 非最小相位系统中包含 𝑠 最高次幂的系数为负的因子 （飞机、导弹本身特性所产生的, 或在系统结构图变换过程中所产生的）
2. 控制系统中包含有正反馈内回路 （由于某种性能指标要求, 使得在复杂的控制系统设计中, 必须包含正反馈内回路）

二、根轨迹方程

特征方程：$1-G(s)H(s)=0$ 根轨迹方程：$G(s)H(s)=1$

注意

上面的只是针对单位正反馈系统的，单位负反馈还是和之前一样

三、绘制规则

只有以下几点与 180°根轨迹绘制法则不同，其余均一致

渐近线

\varphi_{a}= \dfrac{2k\pi}{n-m} \end{align}$$ #### 在实轴上的分布 右侧**实轴上**的开环零、极点数目**之和为偶数**，则所在的区域是**根轨迹** （右侧没有零极点，也是根轨迹的部分！） #### 起始角和终止角 $$\begin{align} \theta_{p_{i}}=2k\pi+ \sum\limits_{j=1}^{m} \varphi_{z_{j}p_{i}}-\sum\limits_{j=1, j \neq i}^{n} \theta_{p_{j}p_{i}} \end{align}$$ $$\begin{align} \varphi_{z_{i}}=2k\pi-(\sum\limits_{j=1,j\neq i}^{m} \varphi_{z_{j}z_{i}}-\sum\limits_{j=1}^{n} \theta_{p_{j}z_{i}}) \end{align}$$